[충청게릴라뉴스=강남용 기자] 특허청 기술디자인특별사법경찰과 대전지방검찰청은 반도체 웨이퍼 연마(CMP) 관련 기술을 중국에 유출하려한 국내 대기업·중견기업의 前직원 3명을 구속하는 등 최종적으로 6명을 기소했다.
26일 특허청에 따르면 이들은 국내 3개 대기업·중견기업 전·현직 직원들로 컴퓨터 또는 업무용 휴대전화로 회사 내부망에 접속해 반도체 웨이퍼 연마 공정도 등 회사의 기밀자료를 열람하면서 개인 휴대전화로 사진 촬영하는 수법 등으로 유출한 혐의를 받고 있다.
주범인 A씨(55세, 구속)는 임원 승진에 탈락하자 2019년 6월 중국 업체와 반도체 웨이퍼 연마제(CMP 슬러리) 제조사업 동업을 약정하고 회사에 계속 근무하면서도 메신저 등으로 중국 내 연마제 생산설비 구축 및 사업을 관리했다.
이어 다른 회사 소속 연구원인 B씨(52세, 구속), C씨(42세, 구속), D씨(35세, 불구속)를 스카우트해 중국으로 이직시켰으며 2020년 5월부터 자신도 중국 업체의 사장급으로 이직해 근무했다.
기술경찰은 2022년 3월 국정원 산업기밀보호센터로부터 중국 업체로 이직한 C·D씨 등 2명에 대한 첩보를 받아 수사에 착수했다.
그 과정에서 반도체 웨이퍼 연마기술의 무단유출 및 사용 증거 등을 다량 확보했고 디지털포렌식 증거 분석을 통해 연구원들의 이직을 주도한 추가 공범 4명이 있는 사실 등을 밝혔다.
기술경찰은 수사를 개시한지 9개여월만인 2022년 12월까지 주범 3명을 구속해 기소의견으로 추가 공범 전·현직원 3명은 불구속 기소의견으로 모두 송치했고 대전지방검찰청은 2023년 1월 이들을 산업기술보호법 및 부정경쟁방지법(영업비밀 국외누설 등) 위반 혐의 등으로 모두 기소했다.
3개 피해기업은 모두 코스피 또는 코스닥시장 상장사들로서, 시가총액 합계 66조원 규모에 이른다.
이들 중 피해규모가 가장 작은 회사의 경우 기술유출로 인해 1000억원 이상의 경제적 피해가 발생했고 A씨 등이 유출한 자료로 중국에서 본격적인 사업을 진행하기 전에 구속함으로써 추가적인 경제적 피해를 차단할 수 있었다고 기술경찰은 설명했다.
김시형 산업재산보호협력국장은 “기술패권 경쟁 시대에는 기술력이 곧 국력”이라며 “특허청은 기술경찰의 역할을 더욱 강화하고 우리의 국가 핵심기술을 지켜내는 데 앞장서겠다”고 밝혔다.
이어 “유수한 반도체 연구 인력이 해외로 이직해 기술유출의 유혹을 받지 않도록 특허청 심사관으로의 재취업 기회를 제공해 기술범죄를 원천적으로 차단하기 위해서도 노력하겠다”고 했다.
